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三星电子今日在上海展示3nm工艺路线图

编辑:jiayuan 2018-06-14 16:37:52 来源于:IT之家

  6月14日消息 据相关媒体报道,为了进一步提升在国内晶圆代工领域中的竞争力,三星电子日前在上海召开“2018三星晶圆代工论坛 ”,并在现场展示了自家的3nm工艺路线图。值得一提的是,这也是三星第一次在中国召开晶圆代工论坛!下面就让我们来了解一下吧。

三星电子今日在上海展示3nm工艺路线图

  据悉,三星电子的事业部长带领主要管理团队本次论坛上介绍了晶圆代工事业部升级为独立业务部门一年来的发展成果,以及未来发展路线图和服务,并提出合作方案,以促进半导体业界实现美好愿景和共同发展。

  本次论坛上首次发布的内容包括晶体管构造(FinFET、GAA)与曝光技术(EUV)的使用计划,以及3纳米芯片高端工艺的发展路线图。

  三星晶圆代工业务不仅在eFlash/PMIC/DDI/CIS/RF/IoT等产品定制型8英寸特种工艺和高端工艺等多个领域占据领先地位,还打造了具备实力的晶圆代工生态系统,包括IP、EDA和设计服务支持,并且有能力提供设计、生产、封装、测试等一站式服务。

  此外,三星电子晶圆代工事业部战略市场部部长、副社长裵永昌公开表示,三星电子今年有望在业界率先实现EUV技术的商用化,并强调三星电子晶圆代工事业部将加强与中国市场的沟通,为中国市场量身打造晶圆代工解决方案,成为中国无厂晶圆企业走向成功的合作伙伴。

  对此,网友们则纷纷调侃称,“以前三星是脱了鞋跟英特尔赛跑,现在直接是光着屁股赛跑了”、“这个3nm是不是又是自己定的名字?我想知道和英特尔的几nm相当?”、“nm快不够三星用得了”、“3nm?英特尔听了想打人。”......

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